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Reinigungsmittel

Messung der Reinigungslösung

In der Halbleiterindustrie ist die Steuerung der Konzentration von Reinigungslösung und die Reinlichkeit bei den verschiedenen Vorgängen von der Reinigung des Wafers bis zur Entfernung des Photolacks ein wichtiger Gesichtspunkt, der die Produktausbeute beeinflusst.